Запропоновано методи деформації для дослідження параметрів глибокого рівня в напівпровідниках. Він базується на вимірах параметрів деформації компенсованих і надкомпенсованих напівпровідників. Досліджено динамічні зміни струму в компенсованих та надкомпенсованих зразках p-типу Si: Ni та n-типу Si: Mn за однорідного імпульсного гідростатичного стискування (ОГС). Встановлено, що в p-типу Si: Ni зразках енергія іонізації Ni за ОГС збільшується. Навпаки, вона зменшується в зразках n-типу Si: Mn. Енергія іонізації та баричний коефіцієнт зсуву рівнів Ni і Mn були обмеженими.

  Повний текст PDF - 496.238 Kb    Зміст випуску     Цитування публікації

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"