За допомогою методу хімічного осадження вирощено пористі нанолусочки окису нікелю NiO. На підкладці оксид індію-олова/скло отримано тонкі плівки та піддані відпалу за змінної температури в печі. Вивчено та проаналізовано їх структуру, оптичні властивості та морфологію поверхні. За допомогою методу емісійної растрової електронної мікроскопії показано присутність нанолусочок у структурі NiO/Ni(OH)2 тонких плівок. Розміри нанолусочок збільшуються з ростом температури відпалу. Знайдено, що найбільшу площу поверхні має зразок, вирощений за 300 <^>oC. Результати енергодисперсійної спектроскопії показують нестехіометрію атомного відношення зразка, що відповідає p-типу NiO тонкої плівки. За допомогою методу атомної силової спектроскопії знайдено, що зразок, вирощений за 300 <^>oC, має найбільшу шорсткість (47,9 нм). Рентгеноструктурний аналіз показує, що NiO нанолусочки мають кубічну структуру з піками орієнтації (111), (200), і (220). Це особливо чітко проявляється за 300 <^>oC. Рентгеноструктурний аналіз також показує відсутність Ni(OH)2 піка за відпалу. Вимірювання в ультрафіолеті та видимому світлі дають малу ширину забороненої зони 3,80 еВ для 300 <^>oC через високу кристалічність. Ця температура є оптимальною для синтезу NiO нанолусочок високої якості, що є важливим для їх застосування в сенсорах.

  Повний текст PDF - 1.527 Mb    Зміст випуску     Цитування публікації

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"