Study of the distribution of temperature profiles in nonstoichiometric SiOx films at laser annealing

Gavrylyuk, O. O.; Semchuk, O. Yu.; Steblova, O. V.; Evtukh, A. A.; Fedorenko, L. L.


	Наукова періодика України		Ukrainian journal of physics

Gavrylyuk O. O.
Study of the distribution of temperature profiles in nonstoichiometric SiOx films at laser annealing / O. O. Gavrylyuk, O. Yu. Semchuk, O. V. Steblova, A. A. Evtukh, L. L. Fedorenko // Ukrainian journal of physics. - 2014. - Vol. 59, № 7. - С. 712-718. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/Ukjourph_2014_59_7_9

Проведено теоретичне дослідження розповсюдження температурних профілів в нестехіометричних плівках SiOx під час лазерного відпалу одиничним імпульсом. Розраховано розподіл температури на поверхні плівок SiOx, опромінених лазерним променем з різною інтенсивністю. Знайдено розподіл температури на різній глибині плівок SiOx, опромінених лазерним променем з інтенсивністю 52 МВт/см<^>2. Показано, що під час лазерного відпалу з інтенсивністю 52 МВт/см<^>2 температура на поверхні плівок SiOx може досягати 1800 К.

Повний текст PDF - 2.38 Mb

Зміст випуску Google Scholar

Цитування публікації

Цитованість авторів публікації:

Бібліографічний опис для цитування:

Gavrylyuk O. O. Study of the distribution of temperature profiles in nonstoichiometric SiOx films at laser annealing / O. O. Gavrylyuk, O. Yu. Semchuk, O. V. Steblova, A. A. Evtukh, L. L. Fedorenko // Ukrainian journal of physics. - 2014. - Vol. 59, № 7. - С. 712-718. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/Ukjourph_2014_59_7_9.

Додаткова інформація про автора(ів) публікації:
(cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці)

Семчук Олександр Юрійович (1950–) (фізико-математичні науки)

Федоренко Леонід Леонідович (фізико-математичні науки)

Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"

Відділ інформаційно-комунікаційних технологій

Пам`ятка користувача