Бібліографічний опис для цитування:
Rudenko R. M. Behavior of hydrogen during crystallization of thin silicon films doped with tin / R. M. Rudenko, M. M. Kras’ko, V. V. Voitovych, A. G. Kolosyuk, V. Yu. Povarchuk, A. M. Kraichynskyi, V. O. Yukhymchuck, V. Ya. Bratus’, M. V. Voitovych, I. A. Zaloilo // Ukrainian journal of physics. - 2013. - Vol. 58, № 12. - С. 1165-1170. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/Ukjourph_2013_58_12_10.Відділ інформаційно-комунікаційних технологій |
Пам`ятка користувача |
Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського |