Наукова періодика України Український фізичний журнал


Thongpan W. 
External-electric-field-enhanced uniformity and deposition rate of a TiO2 film prepared by the sparking process / W. Thongpan, T. Kumpika, E. Kantarak, A. Panthawan, P. Pooseekheaw, P. Singjai, W. Thongsuwan, A. Tuantranont // Український фізичний журнал. - 2018. - Т. 63, № 6. - С. 530-536. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/UPhJ_2018_63_6_10
Зовнішнє електричне поле застосовано для збільшення однорідності і швидкості утворення плівок TiO2. Експеримент виконано іскровим розрядом з Ti дротів за сталої напруги 1 кВ (поле Eint = 10 кВ/см) і невеликого струму 3 мА. Система іскрового розряду перебувала в зовнішніх електричних полях (Eext) 3, 6, і 9 кВ/см від 1 до 5 год. Морфологія тільки що приготовлених плівок визначалася за допомогою методу растрової електронної мікроскопії. Показано, що плівки формуються тільки в області дії зовнішнього електричного поля. У зовнішньому електричному полі 9 кВ/см швидкість утворення плівок збільшилася з 40,7 до 77,8 %. Досліджено й описано дію зовнішнього електричного поля на швидкість утворення і однорідність плівок.
  Повний текст PDF - 948.898 Kb    Зміст випуску     Цитування публікації

Цитованість авторів публікації:
  • Thongpan W.
  • Kumpika T.
  • Kantarak E.
  • Panthawan A.
  • Pooseekheaw P.
  • Singjai P.
  • Thongsuwan W.
  • Tuantranont A.

  • Бібліографічний опис для цитування:

    Thongpan W. External-electric-field-enhanced uniformity and deposition rate of a TiO2 film prepared by the sparking process / W. Thongpan, T. Kumpika, E. Kantarak, A. Panthawan, P. Pooseekheaw, P. Singjai, W. Thongsuwan, A. Tuantranont // Український фізичний журнал. - 2018. - Т. 63, № 6. - С. 530-536. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/UPhJ_2018_63_6_10.

      Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
     
    Відділ інформаційно-комунікаційних технологій
    Пам`ятка користувача

    Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського