Наукова періодика України | Український фізичний журнал | ||
Thongpan W. External-electric-field-enhanced uniformity and deposition rate of a TiO2 film prepared by the sparking process / W. Thongpan, T. Kumpika, E. Kantarak, A. Panthawan, P. Pooseekheaw, P. Singjai, W. Thongsuwan, A. Tuantranont // Український фізичний журнал. - 2018. - Т. 63, № 6. - С. 530-536. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/UPhJ_2018_63_6_10 Зовнішнє електричне поле застосовано для збільшення однорідності і швидкості утворення плівок TiO Цитованість авторів публікації: Бібліографічний опис для цитування: Thongpan W. External-electric-field-enhanced uniformity and deposition rate of a TiO2 film prepared by the sparking process / W. Thongpan, T. Kumpika, E. Kantarak, A. Panthawan, P. Pooseekheaw, P. Singjai, W. Thongsuwan, A. Tuantranont // Український фізичний журнал. - 2018. - Т. 63, № 6. - С. 530-536. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/UPhJ_2018_63_6_10. Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|
|
Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського |