Gemechu N. Structural characterization and thickness profile of pulsed laser-deposited KY3F10: Ho3+ thin films / N. Gemechu, T. Abebe // Український фізичний журнал. - 2018. - Т. 63, № 2. - С. 182-186. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/UPhJ_2018_63_2_15
Тонкі KY3F10:Ho<^>3+ плівки, виготовлені за допомогою методу імпульсного лазерного напилення із застосуванням Nd-YAG лазера (266 нм, тривалість імпульсу 10 нс, частота повторення 2 Гц) на <$E1~roman {см~times~1~см}> підкладку з кремнію в вакуумі для різних відстаней між мішенню і підкладкою. Рентгенівські дослідження показали, що плівки кристалізуються в тетрагональну полікристалічну фазу KY3F10 (відповідно до карти N 27-0465 Комітету з дифракційних стандартів). Наведено результати розрахунків профілів з урахуванням деяких експериментальних параметрів напилення. У припущенні еліпсоїдального поширення струменя плазми, профіль товщини плівки оцінений рішенням газодинамічних рівнянь у разі адіабатичного поширення струменя плазми у вакуумі. Результати надають переважний напрямок пучка вперед, що добре узгоджуються з експериментом. Теорія і експеримент показують зменшення товщини плівки за збільшення відстані між мішенню і підкладкою, що відповідає зменшенню швидкості напилення. Товщина плівки також зменшується для відносно великих радіальних кутів щодо нормалі до підкладки. Цитованість авторів публікації:Gemechu N.Abebe T.
Бібліографічний опис для цитування: Gemechu N. Structural characterization and thickness profile of pulsed laser-deposited KY3F10: Ho3+ thin films / N. Gemechu, T. Abebe // Український фізичний журнал. - 2018. - Т. 63, № 2. - С. 182-186. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/UPhJ_2018_63_2_15.
 Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|