Наукова періодика України Український фізичний журнал


Hladkovskiy V. V. 
Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures / V. V. Hladkovskiy, O. A. Fedorovich // Український фізичний журнал. - 2017. - Т. 62, № 3. - С. 206-211. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/UPhJ_2017_62_3_5
Наведено результати експериментальних досліджень впливу напруги зміщення на еволюцію спектрів випромінювання плазми під час травлення нітриду галію в плазмохімічному реакторі (ПХР) з керованими магнітними полями. За значень напруги зміщення більших за -250 В на спектрах випромінювання плазми з'являються лінії, що належать збудженим атомам матеріалів, з яких виготовлений робочий електрод. Під впливом від'ємного потенціалу проходить розпилення активного електрода і переосадження іонів металу на поверхню зразка, який обробляється, що призводить до зменшення швидкості травлення.
  Повний текст PDF - 581.659 Kb    Зміст випуску     Цитування публікації

Цитованість авторів публікації:
  • Hladkovskiy V.
  • Fedorovich O.

  • Бібліографічний опис для цитування:

    Hladkovskiy V. V. Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures / V. V. Hladkovskiy, O. A. Fedorovich // Український фізичний журнал. - 2017. - Т. 62, № 3. - С. 206-211. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/UPhJ_2017_62_3_5.

      Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
     
    Відділ інформаційно-комунікаційних технологій
    Пам`ятка користувача

    Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського