Для нанесения наноструктурированных покрытий на внутренние поверхности разработана оригинальная конструкция несбалансированной цилиндрической магнетронной распылительной системы. Разработанная конструкция характеризуется простотой и возможностью выполнения всех технологических переходов ионно-плазменной обработки в одном вакуумном цикле. Расчетными и экспериментальными методами исследована структура магнитного поля в распылительной системе. Определены рабочие режимы предварительной ионной обработки и наноструктурирования покрытия способом ионного ассистирования. Результаты можно использовать при проектировании технологии и технологических устройств нанесения функциональных покрытий на внутренние поверхности пар трения типа цилиндр - поршень, работающих в условиях повышенного коррозионного и абразивного износа.

Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"