Наукова періодика України Технологія та конструювання в електронній апаратурі


Ащеулов А. А. 
Радиационно стойкая фотоструктура на основе Cr/In2Hg3Te6 для диода Шоттки / А. А. Ащеулов, А. В. Галочкин, И. С. Романюк, С. Г. Дремлюженко // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. - 2016. - № 2-3. - С. 3-7. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/TKEA_2016_2-3_3
Представлены конструкция и технология изготовления структуры фотодиода Шоттки на основе подложки из радиационно-стойкого кристалла n-In2Hg3Te6 с барьерным слоем из Cr, характеризуемого фотоответом в области 0,6—1,6 мкм при максимальной чувствительности 0,43 А/Вт на длине волны 1,55 мкм. Исследования электрических параметров этих фотодиодных структур показали, что высота потенциального барьера составляет 0,41 эВ, а величина обратного темнового тока не превышает 4 мкА. Созданные устройства сохраняют свою работоспособность при дозах гамма-облучения 2 108 бэр.Наведено конструкцію і технологію виготовлення структури фотодіода Шотткі на основі підкладки з радіаційно-стійкого кристала n-In2Hg3Te6 з бар'єрним шаром з Cr, що характеризується фотовідповіддю в області 0,6—1,6 мкм за максимальної чутливості.Ge, Si, InGaAs, GaInAsP photodiodes are used as optical radiation receivers and function in a spectral range of transparency of quartz fiberglass. For the optical systems operated in the increased radioactivity the photodetectors’ application on In2Hg3Te6 crystal base characterized by a photosensitivity in the spectral range of 0,5-1,6 mm and also by increased radiation resistance to alpha, beta and gamma radiation is most acceptable. Schottky photodiode structure was designed on the base of this semiconductor formed by a modified floating zone recrystallization technique where the sedimentation effect was leveled. It consists of n-In2Hg3Te6 substrate and deposited by cathode sputtering Cr barrier layer of thickness within a range 10-11 nm choice ofCr is determined by its optimal optical, electric and adhesive features in high quality radiation-resistant photodiode structures manufacturing. Indium and nichrome are used as ohmic contacts. The barrier structures have the contact area of 1,13 mm2 withphoto response of 0,6-1,6 mm at the maximal sensitivity 0,43 A/W on the wavelength l,55 mm. Reverse dark current of these structures do not exceed 4 mA at the bias of 1 V (T=295 K), and the potential barrier height is equal to 0,41 eV. The tests of radiation resistance of these structures demonstrated their ability to function at doses of 2•108 rem without evident parameters changes. This allows using them in practical aims in the conditions of high radiation.
  Повний текст PDF - 336.858 Kb    Зміст випуску     Цитування публікації

Цитованість авторів публікації:
  • Ащеулов А.
  • Галочкин А.
  • Романюк И.
  • Дремлюженко С.

  • Бібліографічний опис для цитування:

    Ащеулов А. А. Радиационно стойкая фотоструктура на основе Cr/In2Hg3Te6 для диода Шоттки / А. А. Ащеулов, А. В. Галочкин, И. С. Романюк, С. Г. Дремлюженко // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. - 2016. - № 2-3. - С. 3-7. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/TKEA_2016_2-3_3.

      Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
     
    Відділ інформаційно-комунікаційних технологій
    Пам`ятка користувача

    Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського