У низці робіт вказано на значне збільшення термоелектричної (ТЕ) добротності тонких плівок Bi2Te3 під дією відпалу, однак практично відсутні роботи із впливу відпалу на ТЕ властивості й структуру плівок Bi2Te3, одержаних методом термічного випаровування у вакуумі з одного джерела. Досліджено невідпалені й відпалені за 500 К упродовж 1 години тонкі плівки Bi2Te3 товщиною d ~ 200 нм, одержані методом термічного випаровування у вакуумі з одного джерела з використанням різних складів вихідної шихти (60 й 62,8 ат. % Te) і різних температур підкладки (Tsub = 320 - 500 К). Показано, що поза залежністю від складу вихідної шихти й температури підкладки відпал сприяє поліпшенню досконалості структури плівок Вi2Те3 й утворенню вираженої текстури, однак на відміну від плівок, вирощених із шихти з 60 ат. % Te, ТЕ потужність Р плівок, одержаних із шихти з надлишком Te, знижується. Визначено оптимальні параметри вирощування плівок Bi2Te3, що надають можливість одержати максимальні значення Р, порівнянні з ТЕ потужністю плівок, одержаних більш дорогими й трудомісткими методами.

  Повний текст PDF - 661.685 Kb    Зміст випуску     Цитування публікації

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"