Локальные характеристики плазмы в инверсном магнетроне с газовым анодом, секционированными катодными узлами и осевыми потоками плазмы

Слюсарь, Д. В.

Показана необходимость использования контролируемого метода нанесения покрытий для реализации принципа конструирования покрытий. Сделан вывод о перспективности использования для решения данной задачи установок на основе инверсных магнетронных распылительных систем с газовым анодом и секционированными катодными узлами. Проанализированы результаты зондовых исследований локальных параметров плазмы в исследуемой распылительной системе. Сделаны выводы о том, что она является ускорителем холловского типа с протяжённой зоной ускорения, зоны генерации ионов и их ускорения на катоды-мишени разделены.

Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"


	Наукова періодика України		Вопросы проектирования и производства конструкций летательных аппаратов