Наукова періодика України | Фотоэлектроника | ||
Dubrovskaya Yu. V. Atomic chemical composition effect on the beta decay probabilities for 35Cl, 241Pu / Yu. V. Dubrovskaya, T. A. Florko, D. E. Sukharev // Фотоэлектроника. - 2014. - № 23. - С. 131-135. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/Photo_el_2014_23_18 Within a new theoretical scheme for sensing the atomic chemical environment effect on the beta decay characteristics there are presented numerical results for chemical environment effect on the beta decay in the fluorine, sulphur and nickel. Despite on the relative smallness of the atomic chemical environment effect on the beta decay probabilities for corresponding decays, the situation may be significantly changed under consideration of the beta decay for the heavy elements.На базі нової теоретичної схеми обчислення ефекту впливу хімічного отточення на характеристики <$E beta> розпаду надано числові оцінки впливу хімічного отточення на <$E beta> розпад <^>35 Цитованість авторів публікації: Бібліографічний опис для цитування: Dubrovskaya Yu. V. Atomic chemical composition effect on the beta decay probabilities for 35Cl, 241Pu / Yu. V. Dubrovskaya, T. A. Florko, D. E. Sukharev // Фотоэлектроника. - 2014. - № 23. - С. 131-135. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/Photo_el_2014_23_18. Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|
|
Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського |