Плазменная очистка технологических камер в высокочастотном емкостном разряде

Лисовский, В.; Бут, Ж.-П.; Ландри, K.; Дуэ, Д.; Касань, В.


	Наукова періодика України		Фізична інженерія поверхні

Лисовский В.
Плазменная очистка технологических камер в высокочастотном емкостном разряде / В. Лисовский, Ж.-П. Бут, K. Ландри, Д. Дуэ, В. Касань // Фізична інженерія поверхні. - 2004. - Т. 2, № 4. - С. 168-183. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/Phip_2004_2_4_5

Повний текст PDF - 420.704 Kb

Зміст випуску Google Scholar

Цитування публікації

Цитованість авторів публікації:

Бібліографічний опис для цитування:

Лисовский В. Плазменная очистка технологических камер в высокочастотном емкостном разряде / В. Лисовский, Ж.-П. Бут, K. Ландри, Д. Дуэ, В. Касань // Фізична інженерія поверхні. - 2004. - Т. 2, № 4. - С. 168-183. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/Phip_2004_2_4_5.

Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"

Відділ інформаційно-комунікаційних технологій

Пам`ятка користувача