Показано можливість лазерно-стимульованого фазового перетворення в тонких шарах SiOx аморфної нестехіометричної фази в нанокомпозитний шар з нанокристалами Si, вбудованими в оксидну матрицю кремнію. Формування Si-наночастинок у плівці SiOx відбувалося завдяки опроміненню наносекундними імпульсами Nd<^>+3:YAG лазера на основній довжині хвилі <$Elambda sub 1 ~=~1,064~mu m>, а також другій гармоніці <$Elambda sub 2 ~=~0,532~mu m>. Атомно-силовою мікроскопією (АСМ) та оптичними спектрами пропускання на поверхні виявлено наноструктуризацію у вигляді наночастинок Si з середніми розмірами від 5 до 85 nm. Розміри наночастинок та їх поверхневий розподіл залежать від інтенсивності I та довжини хвилі <$Elambda> лазера. Визначено механізм формування нанокристалів Si, зумовлений лазерним термоударом. За результатами досліджень АСМ зображень, комбінаційних спектрів та поляризаційно-модуляційної спектроскопії виявлено збільшення монокристалічної фази у плівці нанокомпозита CNx-Ni з одночасним зростанням розміру наночастинок CNx-Ni завдяки імпульсній лазерній дії. Запропоновано механізм лазерно-стимульованого зростання кристалізації плівки, який полягає в локальному відпалі оболонки CNx внаслідок лазерного розігріву металевого ядра Ni наночастинки CNx-Ni, а також більшій сублімації аморфної фази CNx-Ni завдяки нижчій температурі дисоціації аморфної фази оболонки CNx у порівнянні з кристалічною.

  Повний текст PDF - 897.028 Kb    Зміст випуску     Цитування публікації

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"