Методами молекулярного пучка, изотермической десорбции, термодесорбционной масс-спектрометрии (ТПД) и оже-электронной спектроскопии исследован процесс формирования слоя оксида на поверхности Мо(110). Обнаружены две стадии процесса адсорбционного взаимодействия кислорода с поверхностью. На первой стадии происходит формирование хемосорбированного слоя атомарного кислорода с вероятностью прилипания, спадающей от S0 = 0,75 для чистой поверхности до S = 0,003 в конце стадии. Характерная экспозиция для этой стадии - 60 L (1 L = 10<^>-6 <$E roman {торр~cdot~c>), и образования оксидов при этом не происходит. На второй стадии, после завершения формирования хемосорбированного слоя, начинается формирование слоя оксида, скорость чего зависит от температуры подложки. Вероятность образования молекулы оксида при падении молекулы кислорода изменяется от 10<^>-8 при TS = 300 К до 10<^>-5 при TS = 1200 К. Процесс образования оксида не обнаруживает признаков насыщения, и при экспозиции 105 L удалось сформировать четырехслойное покрытие оксида. Анализ спектров ТПД выявил первый порядок реакции десорбции, что свидетельствует о десорбции готовых соединений, а не их образовании в акте десорбции при повышении температуры. Наблюдалось смещение пиков ТПД к высшим температурам при росте концентрации адсорбата, свидетельствующее о значительном притягивающем латеральном взаимодействии между молекулами оксида. Наличие такого взаимодействия подтверждают и эксперименты по изотермической десорбции.