На основе современных представлений о закономерностях инициирования и развития разряда в жидких диэлектриках выполнено научно-техническое обоснование построения системы плазменной обработки водных растворов с перспективой масштабирования на большую производительность. Особое внимание уделяется генерированию высокореакционной плазмы с низким энергопотреблением. Это достигается за счет таких технических решений: резонансное разделение импульса на два канала, при этом от одного источника электропитания возбуждаются два независимых электрических разряда с энергиями около 1 Дж; создание в межэлектродных зазорах условий для горения самостоятельного объемного разряда на границах фазового перехода, при этом весь объем обрабатываемого раствора эффективно насыщается радикалами OH. Кроме того, за счет оптимального соотношения длительности импульса к частоте прохождения импульсов обеспечивается самофиксация (поддержание средней концентрации на заданном уровне) радикалов OH во всем объеме раствора. Создан образец установки, нацеленный на широкомасштабное использование. Данный комплекс, выполненный в модульном исполнении, легко встраивается в системы обработки водных растворов для очистки от тяжелых металлов, радионуклидов, солей жесткости, дезинфекции и т.д.

  Повний текст PDF - 259.061 Kb    Зміст випуску     Цитування публікації

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"