Книжкові видання та компакт-диски Журнали та продовжувані видання Автореферати дисертацій Реферативна база даних Наукова періодика України Тематичний навігатор Авторитетний файл імен осіб
|
Пошуковий запит: (<.>I=Ж60673<.>) |
Загальна кількість знайдених документів : 448
Представлено документи з 1 до 20
|
| |
Анализ экситонной люминесценции полуизолирующих специально нелегированных кристаллов арсенида галлия
Глинчук, К. Д. Анализ экситонной люминесценции полуизолирующих специально нелегированных кристаллов арсенида галлия: Вып. 35, 2000
В специально нелегированных полуизолирующих кристаллах арсенида галлия с относительно низким содержанием остаточных примесей и дефектов детально изучены зависимости интенсивности и формы экситонных полос люминесценции от температуры и уровня возбуждения. Это позволило уточнить ряд характеристик полос люминесценции, обусловленных аннигиляцией свободных и связанных экситонов. Проведено сравнение полученных данных с известными в литературе. |
НАДХОДЖЕННЯ: Биосенсор на основе планарного поляризационного волновода
Ширшов, Ю. М. Биосенсор на основе планарного поляризационного волновода: 33 / Ю. М. Ширшов, С. В. Свечников [et al.], 1998
На основе планарной световодной структуры кремний-двуокись кремния-нитрид кремния-фосфоросиликатное стекло разработан и изготовлен планарный поляризационный интерферометр для применения в качестве биосенсора. Продемонстрирована высокая чувствительность прибора в режиме рефрактометра, а также возможность его применения для точного определения количества связанных с поверхностью прибора молекулярных слоев на примере неспецифической сорбции альбумина и специфического связывания иммуноглобулина. Предложена качественная и количественная интерпретация экспериментальных результатов с привлечением модели поперечного синхронизма для описания оболочечных мод в сложной слоистой структуре. |
НАДХОДЖЕННЯ: Виртуальный измерительный комплекс параметров оптронов
Олексенко, П. Ф. Виртуальный измерительный комплекс параметров оптронов: 33, 1998
Разработан и изготовлен виртуальный измерительный комплекс параметров оптронов, в котором часть функций и операций осуществляется не аппаратно, а программно с помощью персонального компьютера. При этом компьютер выполняет функции, связанные с взаимодействием пользователя и измерительной системы. Описанный вариант комплекса позволяет определять (с выдачей соответствующего сертификата качества) статические и дифференциальные параметры различного типа оптронов (с погрешностью не более 1 ), а также динамические переходные параметры (с погрешностью не более 5 ). Комплекс многофункциональный и модульно-программно перестраиваемый. |
НАДХОДЖЕННЯ: Влияние СВЧ излучения на характеристики GaAs полевых транзисторов с затвором Шоттки
Камалов, А. Б. Влияние СВЧ излучения на характеристики GaAs полевых транзисторов с затвором Шоттки: Вып. 35, 2000
Представлены результаты экспериментального исследования влияния СВЧ излучения на деградационные процессы в арсенидгаллиевых полевых транзисторах с затвором Шоттки (ПТШ). Показано, что арсенидгаллиевые ПТШ изменяют свои параметры после кратковременного СВЧ облучения частотой 2,45 Гц в свободном пространстве при фиксированной выходной мощности. При этом основные изменения происходят в затворе транзистора. |
НАДХОДЖЕННЯ: Вплив морфології омічних контактів на надвисокочастотні параметри польових транзисторів
Іващук, А. В. Вплив морфології омічних контактів на надвисокочастотні параметри польових транзисторів: Вып. 35, 2000
Наведено результати теоретичних і експериментальних досліджень впливу морфології омічних контактів (ОК) на надвисокочастотні (НВЧ) параметри GaAs польових транзисторів з бар'єром Шотткі (ПТШ). Доведено, що основні НВЧ параметри ПТШ залежать від морфології ОК. Показано, що запропонована секційна модель ПТШ для врахування неоднорідностей дає можливість із високим ступенем достовірності в широкому температурному діапазоні вирахувати коефіцієнт підсилення за потужністю і шумовою температурою ПТШ, що підтверджено експериментальними результатами. |
НАДХОДЖЕННЯ: Гидрогенизация аморфного кремния методом низкоэнергетичной имплантации изотопов водорода
Голокоз, П. П. Гидрогенизация аморфного кремния методом низкоэнергетичной имплантации изотопов водорода: 33, 1998
Исследована возможность гидрогенизации пленок аморфного кремния методом низкоэнергетичной ионной имплантации. Получены температурные зависимости удельного сопротивления аморфного кремния, выращенного методом газофазного осаждения при разложении силана, дегидрогенизированного аморфного кремния и постгидрогенизированного методом ионной имплантации с последующим отжигом. Подтверждена возможность гидрогенизации плоскостных аморфных кремниевых структур имплантируемыми низкоэнергетичными ионами изотопов водорода, что расширяет технологические возможности создания высокоэффективных тритиевых батарей - атомных элементов питания. |
НАДХОДЖЕННЯ: Изменение положения максимума и полуширины низкотемпературной (77 К) краевой полосы люминесценции при вариации концентрации фоновых легкоионизируемых примесей С и Si в нелегированных полуизолирующих кристаллах GaAs
Глинчук, К. Д. Изменение положения максимума и полуширины низкотемпературной (77 К) краевой полосы люминесценции при вариации концентрации фоновых легкоионизируемых примесей С и Si в нелегированных полуизолирующих кристаллах GaAs: 33, 1998
Изучены при 77 К зависимости положения максимума и полуширины краевой полосы люминесценции в полуизолирующих специально нелегированных кристаллах GaAs от содержания в них фоновых легкоионизируемых примесей C и Si. Установлено, что повышение их концентрации приводит к сдвигу в низкоэнергетическую область положения ее максимума и увеличению ее полуширины. Наблюдаемый эффект в основном связан с уширением экситонной составляющей краевой полосы люминесценции вследствие повышения эффективности излучательной аннигиляции свободных экситонов при их взаимодействии с легкоионизируемыми примесями C и Si. |
НАДХОДЖЕННЯ: Измерение электрофизических параметров тонких слоев карбида кремния методом спектроскопии ИК отражения
Богуславская, Н. Н. Измерение электрофизических параметров тонких слоев карбида кремния методом спектроскопии ИК отражения: Вып. 35, 2000
Разработана методика измерения электрофизических параметров тонких монокристаллических слоев карбида кремния на монокристаллах карбида кремния методом ИК спектроскопии. Дисперсионный анализ спектров отражения позволил определить частоты и коэффициенты затухания фононов и плазмонов в слоях карбида кремния, которые изменяются в зависимости от технологии получения и обработки слоев карбида кремния. |
НАДХОДЖЕННЯ: Исследование влияния дефектов структуры твердого тела на фотоакустический сигнал
Верцанова, Е. В. Исследование влияния дефектов структуры твердого тела на фотоакустический сигнал: Вып. 35, 2000
Представлены результаты теоретических исследований фотоакустического эффекта в оптически непрозрачном и термически толстом твердом теле с пьезоэлектрической регистрацией. Проведен расчет зависимостей амплитуды и фазы фотоакустического сигнала от частоты модуляции лазерного излучения, толщины дефекта и глубины его залегания для модельной трехслойной структуры Si - GaAs - Si. Показано, что изменяя частоту модуляции, можно проводить послойный анализ подповерхностных свойств объекта. |
НАДХОДЖЕННЯ: Исследование поверхностно-барьерных структур на основе поликристаллического CdS при облучении моноэнергетическими потоками электронов
Горбик, П. П. Исследование поверхностно-барьерных структур на основе поликристаллического CdS при облучении моноэнергетическими потоками электронов: 33, 1998
На основании экспериментальных результатов, полученных при облучении моноэнергетическими потоками электронов с энергией до 30 кэВ, сделан вывод о том, что поверхностно-барьерные структуры на основе поликристаллического CdS перспективны для разработки эффективных детекторов бета-излучения "мягких" энергий. Преимуществами таких структур являются высокие токовая и вольтовая чувствительности, а также линейная в широком динамическом диапазоне дозиметрическая характеристика. |
НАДХОДЖЕННЯ: Исследование свойств модулятора поляризации излучения в поляриметрических оптических схемах
Никитенко, Е. В. Исследование свойств модулятора поляризации излучения в поляриметрических оптических схемах: 33, 1998
Проведены анализ и систематизация вариантов компоновки оптических схем, использующих модулятор поляризации и предназначенных для поляриметрии. Рассмотрена роль модулятора на основе фотоупругого эффекта в зависимости от начального состояния поляризации. Определены условия расположения элементов схемы и особенности измеряемых сигналов, которые позволяют достичь высокой обнаружительной способности по отношению к величине двулучепреломления. |
НАДХОДЖЕННЯ: Исследование термоупругого двулучепреломления в твердых телах с применением модуляции поляризации
Венгер, Е. Ф. Исследование термоупругого двулучепреломления в твердых телах с применением модуляции поляризации: 33, 1998
В образцах, вырезанных из монокристалла кремния, плавленого кварца, полиметилметакрилата, исследован эффект фотоупругости, индуцированный градиентом температуры. Использование поляризационной модуляции позволило провести исследования при малых градиентах температуры и получить достоверные данные о распределении наведенной анизотропии вдоль теплового потока. |
НАДХОДЖЕННЯ: Определение оптических параметров тонких проводящих пленок и расчет спектра пропускания света в полупроводник солнечного элемента с плоской или текстурированной границей раздела
Дмитрук, Н. Л. Определение оптических параметров тонких проводящих пленок и расчет спектра пропускания света в полупроводник солнечного элемента с плоской или текстурированной границей раздела: Вып. 34, 1999
Предложен и проанализирован комплексный метод вычисления оптических потерь в тонкопленочных солнечных элементах, включающий: определение оптических констант тонких металлических пленок и (или) пленок прозрачных проводящих окислов на спутниковых прозрачных подложках в режимах обычной отражательной многоугловой эллипсометрии и эллипсометрии с возбуждением поверхностных плазменных поляритонов, измерение относительных спектров отражения света для тех же пленок на полупроводниковой подложке, расчет спектров пропускания света в фотоактивную область тонкопленочного элемента с плоскими или микрорельефными границами раздела со специальным видом микрорельефа. |
НАДХОДЖЕННЯ: Оптимизация и выбор условий для функционирования емкостных сенсорных структур электролит - диэлектрик - кремний
Кукла, А. Л. Оптимизация и выбор условий для функционирования емкостных сенсорных структур электролит - диэлектрик - кремний: Вып. 35, 2000
Проведена оптимизация расчета сигнала отклика сенсорной емкостной структуры типа электролит - диэлектрик - полупроводник (ЭДП) с ионочувствительным слоем нитрида кремния, работающей по принципу измерения высокочастотных вольт-фарадных характеристик такой структуры. Проанализированы физические ограничения, возникающие при построении интегральных сенсорных ЭДП-массивов на основе единой кремниевой подложки. Показано, что оптимальный выбор как конструктивных, так и электрических параметров сенсорного массива позволяет получить независимые выходные сигналы для всех сенсорных каналов массива, обеспечивая его корректную работу. |
НАДХОДЖЕННЯ: Оптимизация конструкции планарно-поляризационного интерферометра
Ширшов, Ю. М. Оптимизация конструкции планарно-поляризационного интерферометра: Вып. 34, 1999
Проведен анализ оптико-механических особенностей планарнополяризационного интерферометра (ППИ) для применения в качестве биосенсоров. Экспериментальные исследования шести способов механической обработки входного окна световода показали, что наибольшее количество вводимой световой энергии обеспечивает раскалывание кремниевой пластины по линии спайности, скрайбирование с обратной стороны и оптимизированное плазмохимическое травление через маску фоторезиста. Оптимальным условием для ввода излучения оказалось непосредственное освещение входного торца лучом лазера, а регистрация вышедшего излучения требует широкоапертурной оптической системы. Оптимизированная конструкция ППИ испытана на примере регистрации фибриногена и антитела к нему на поверхности нитрида кремния, где показаны высокая чувствительность конструкции и возможность регистрировать кинетику процессов связывания в иммунных реакциях. |
НАДХОДЖЕННЯ: Оптический метод измерения параметров магнитного поля
Липтуга, А. И. Оптический метод измерения параметров магнитного поля: 33, 1998
Рассмотрен оптический метод измерения параметров магнитного поля (напряженность, частота, направление), основанный на взаимодействии электронно-дырочной плазмы полупроводника с лазерным излучением в условиях магнитоконцентрационного эффекта. Метод характеризуется высокими метрологическими параметрами, что во многом определяется низкой его чувствительностью к электрическим и оптическим помехам. Показано, что он может использоваться для измерений в зонах экстремальных воздействий (радиация, агрессивные среды), когда магниточувствительный элемент должен находиться на значительном удалении от оператора. Приведены данные экспериментальных исследований магниточувствительных устройств, реализующих метод. |
НАДХОДЖЕННЯ:
НАН Украины. Ин-т физики полупроводников. = Optoelectronics and semiconductor technics. – К.: Наук. думка. – 2000
Наведено відомості про елементи радіоелектронних пристроїв, опто- та мікроелектроніки на напівпровідниках і діелектриках. Охарактеризовано напівпровідникові прилади та матеріали, а також вивчено дію на них різноманітних чинників. Висвітлено вплив морфології омічних контактів на надвисокочастотні параметри польових транзисторів. Досліджено історію та обгрунтовано перспективи розвитку промислового виробництва напівпровідникових матеріалів в Україні. |
НАДХОДЖЕННЯ: Головний редактор: | Свечников С. В. | Практическое применение пористого кремния
Хоменкова, Л. Ю. Практическое применение пористого кремния: 33, 1998
Описано применение пористого кремния (ПК) в различных областях полупроводниковой микроэлектроники. Рассмотрено использование ПК для создания фильтров и газовых сенсоров, для формирования высокопроводящих слоев, контактов и соединительных элементов ИС, резисторов, фотоэлектродов, волноводов, тонких пленок нитрида, оксида или карбида кремния, а также для формирования светоизлучающих структур, антиотражающих покрытий, фотоприемников и солнечных элементов, преобразователей излучения. Проанализированы механизмы электролюминесценции и проблемы, стоящие перед разработчиками оптоэлектронных приборов и возможные пути их решения. |
НАДХОДЖЕННЯ: Проблемы топологической привязки элементов полупроводниковых приборов
Ильин, И. Ю. Проблемы топологической привязки элементов полупроводниковых приборов: 33 / И. Ю. Ильин, 1998
Приведены данные по технологическим аспектам производства полупроводниковых приборов, обусловленные влиянием ориентационных характеристик материала. Предложены рекомендации по повышению качества топологической привязки в процессе технологического цикла изготовления полупроводниковых приборов. Описан простой, доступный, экспрессный метод формирования ориентационных меток на пластинах GaAs для топологической привязки элементов полупроводниковых приборов с использованием контактной фотолитографии. |
НАДХОДЖЕННЯ: Стимулированное углеродом увеличение концентрации дивакансий галлия в полуизолирующих нелегированных кристаллах арсенида галлия
Глинчук, К. Д. Стимулированное углеродом увеличение концентрации дивакансий галлия в полуизолирующих нелегированных кристаллах арсенида галлия: Вып. 34, 1999
Показано, что увеличение содержания углерода в полуизолирующих нелегированных кристаллах арсенида галлия приводит к существенному возрастанию в них концентрации дивакансий галлия. Отмеченное наиболее вероятно связано с заполнением атомами углерода вакансий мышьяка, входящих в состав комплекса дивакансия мышьяка - дивакансия галлия. |
НАДХОДЖЕННЯ:
|
|
Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського
|
|