1. |
Voznyy M. V. Diffusion model of defect formation in silicon under light ion implantation / M. V. Voznyy, P. M. Gorley, V. A. Schenderovskyy // Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics. - 2000. - 3, № 3. - С. 271-274. - Бібліогр.: 4 назв. - англ.Запропоновано модель, яка якісно, а в ряді випадків і досить добре кількісно, описує всю сукупність наявних експериментальних результатів з дефектоутворення у Кремнії під час його імплантації легкими іонами. На відміну від уже існуючих моделей, вона враховує процеси дисоціації складних дефектів. У межах припущення про існування приповерхневого поглинаючого шару для вакансій за допомогою теорії груп Лі отримано вирази для просторових розподілів стаціонарних концентрацій вторинних дефектів. Промодельовано поведінку нестаціонарної системи складних дефектів у Кремнії відповідто до концентрації вакансійних пасток, густини іонного струму й енергії імплантованих атомів. Індекс рубрикатора НБУВ: В379.222
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж16425 Пошук видання у каталогах НБУВ
|