Бази даних

Реферативна база даних - результати пошуку

Mozilla Firefox Для швидкої роботи та реалізації всіх функціональних можливостей пошукової системи використовуйте браузер
"Mozilla Firefox"

Вид пошуку
Формат представлення знайдених документів:
повнийстислий
Пошуковий запит: (<.>A=Voznyy M$<.>)
Загальна кількість знайдених документів : 1

      
Категорія:    
1.

Voznyy M. V. 
Diffusion model of defect formation in silicon under light ion implantation / M. V. Voznyy, P. M. Gorley, V. A. Schenderovskyy // Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics. - 2000. - 3, № 3. - С. 271-274. - Бібліогр.: 4 назв. - англ.

Запропоновано модель, яка якісно, а в ряді випадків і досить добре кількісно, описує всю сукупність наявних експериментальних результатів з дефектоутворення у Кремнії під час його імплантації легкими іонами. На відміну від уже існуючих моделей, вона враховує процеси дисоціації складних дефектів. У межах припущення про існування приповерхневого поглинаючого шару для вакансій за допомогою теорії груп Лі отримано вирази для просторових розподілів стаціонарних концентрацій вторинних дефектів. Промодельовано поведінку нестаціонарної системи складних дефектів у Кремнії відповідто до концентрації вакансійних пасток, густини іонного струму й енергії імплантованих атомів.


Індекс рубрикатора НБУВ: В379.222

Рубрики:

Шифр НБУВ: Ж16425 Пошук видання у каталогах НБУВ 
 

Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського