Розроблено систему керування скануванням іонного пучку МеВ-них енергій для каналів ядерного скануючого мікрозонду та протонної літографії в складі прискорювально-аналітичного комплексу на базі електростатичного прискорювача "Сокіл" ІПФ НАН України. Систему введено в експлуатацію на заміну застарілій, яка працювала на мікроконтролерах. Систему побудовано на реконфігурованому модулі виробництва National Instruments із програмованою логічною інтегральною схемою (FPGA). Модуль працює в режимі реального часу та з'єднаний із комп'ютером швидодіючим інтерфейсом PCI-Express із буферизацією даних, що передаються. Система забезпечує два основних режими функціонування: експонування ділянок зразку за заданим профілем та отримання растрового зображення зразку або калібрувальної сітки у вторинних електронах. Експонування профілю можливе в режимах растрового та функціонального сканування. Також реалізовано автоматичне калібрування масштабу профілю та растру сканування. Застосування перепрограмованої логіки надає можливість оперативно налаштовувати систему під умови конкретного експерименту та наявне обладнання. Апаратні можливості системи надають можливість у подальшому під'єднати до 4 спектрометричних перетворювачів для отримання картини елементного складу зразків методами характеристичного рентгенівського випромінювання та зворотного розсіювання протонів. Проведено перші експерименти з опромінення поліметилметакрилату, наведено зображення отриманих мікроструктур, зняті на растровому електронному мікроскопі. Мета роботи - розробка системи управління скануванням високоенергетичного сфокусованого пучка в протонно променевій літографії для створення малорозмірних структур спеціального призначення, а також демонстрація ефективності розробленої системи.

Індекс рубрикатора НБУВ: К960.42

Рубрики:

Технологія виробництва оптичних деталей та вузлів приладів

Шифр НБУВ: Ж100357 Пошук видання у каталогах НБУВ 

Microstructures with a given topology were created on the surface of a pure chitosan films and the same films with nanometer Ti- and Zn-containing layers deposited by magnetron sputtering. These structures were obtained using two methods: proton lithography and femtosecond laser processing. The quality of the structures (the sharpness of the walls and the thickness of the channel) is comparable to the quality of the structures obtained in the classical synthetic resist for proton lithography (polymethylmethacrylate). A thin metal layer on the surface of the biopolymer matrix (resist) does not interfere with the formation of structures by the proton beam writing method. Laser treatment allows to create repeating structures that control the biocompatibility of the treated surface.