Подано інформацію про історію становлення поняття інтелектуальної власності (ІВ), її об'єкти та суб'єкти. Розглянуто питання правової охорони винаходів, корисних моделей і промислових зразків. Розкрито особливості зазначених об'єктів промислової власності, порядок оформлення патентних прав, зміст прав авторів і патентовласників. Наведено основні положення захисту прав на об'єкти ІВ, розглянуто питання їх комерціалізацї. Увагу приділено процедурі видачі патенту, охороні прав на топографії інтегральних мікросхем, передачі права на використання об'єктів ІВ за лізинговим договором. Охарактеризовано форми захисту ІВ.

Розроблено наукові основи забезпечення ефективного перебігу іонно-плазмових процесів та їх контролю шляхом створення методів та устаткування для формування вакуумно-дугових покриттів з високими експлуатаційними властивостями. В процесі аналізу методів одержання покриттів виявлено найбільш суттєві проблеми вакуумно-дугових процесів осадження, які перешкоджають одержанню покриттів з високими експлуатаційними характеристиками. Запропоновано високопродуктивний метод створення сумішей газів і на його основі генератор сумішей газів, який забезпечує одержання покриттів складного змісту. Розроблено джерела плазми з триступеневою системою запуску, в яких забезпечується ресурс вузла підпалу понад 10{\up\fs8 7} спрацьовувань за ймовірності збудження дуги не менше 95 %, а також джерела з керованою температурою робочої поверхні катода, які забезпечують однорідний склад генерованого плазмового потоку. З урахуванням специфіки вакуумно-дугового розряду розроблено системи: автоматичного вимірювання температури поверхні виробів; захисту від мікродугових розрядів; підвищення рівномірності густини іонного струму на підкладку. Показано, що ці рішення комплексно забезпечують ефективний перебіг іонно-плазмових процесів та їх контроль в процесі одержання вакуумно-дугових покриттів.

Розглянуто фізичні процеси, що відбуваються під час одержання вакуумно-дугових покриттів (ВДП) на електродах, у міжелектродному просторі вакуумно-дугового розряду та на оброблюваній поверхні. Описано принципи роботи вакуумно-дугових випарників та основні підходи до їх конструювання, наведено деякі їх схеми. Розкрито специфіку роботи плазмових фільтрів, розглянуто їх конструкції. Висвітлено основні особливості одержання зносостійких ВДП, у тому числі надтвердих наноструктурних, і їх характеристики. Наведено результати застосування ВДП на інструментах. Проаналізовано процеси комбінованої обробки виробів шляхом їх азотування та подальшого нанесення зносостійких ВДП у єдиному технологічному процесі.

Розглянуто питання управління кількістю крапельної фракції в плазмовому потоці технологічних вакуумно-дугових джерел плазми контрольованою зміною температури робочої поверхні катода. Таке управління температурою робочої поверхні катода дозволяє отримувати покриття відповідно до функціональних вимог до них як з мінімальним, так і з максимальним вмістом крапельної фракції. Визначено, що параметрами, які впливають на температуру робочої поверхні катода, в загальному випадку є: щільність теплового потоку, що надходить з розряду на робочу поверхню катода; тепловий опір катода, який визначається відстанню між робочою поверхнею катода і зоною його охолодження; температура охолоджувальної поверхні катода. Досліджено можливості та особливості регулювання і стабілізації температури робочої поверхні катода з охолодженням його як по торцевій, так і по бічній поверхні. У запропонованої конструкції джерела плазми з охолодженням катода по торцевій поверхні обмежено регулювання температури робочої поверхні катода зміною температури охолоджуваного торця; більш широке регулювання можна здійснювати струмом дугового розряду; застосування контролю температури охолоджуючої рідини з одночасним регулюванням її витрати через зону охолодження дозволяє істотно знизити експлуатаційні витрати. Джерело плазми з охолодженням катода по боковій поверхні дозволяє змінювати температуру робочої поверхні катода в широкому діапазоні шляхом зміни відстані між робочою поверхнею катода і зоною його охолодження; стабілізація заданої температури робочої поверхні катода здійснюється підтриманням встановленої відстані між робочою поверхнею катода і зоною його охолодження на постійному рівні переміщенням катода зі швидкістю, що дорівнює швидкості випаровування матеріалу на робочій поверхні катода. У цій конструкції можлива зміна температури робочої поверхні катода безпосередньо в ході процесу напилення шляхом зміни відстані між робочою поверхнею катода і початком зони його охолодження за попередньо заданою програмою.

Наведено результати досліджень, пов’язаних з розробленням автоматизованого комплексу для термоімпульсного фінішного оброблення високоточних деталей у машинобудуванні. Розроблено методику оцінювання напруженого стану деталей при термоімпульсному обробленні, систему керування згорянням, удосконалено систему керованого випускання продуктів згоряння й систему дозування енергії. На основі сучасних цифрових виконавчих механізмів розроблено систему автоматики та ЧПК установки для прецизійного термоімпульсного оброблення. Звернено увагу на міцнісні обмеження режимів термоімпульсного оброблення, наведено алгоритм призначення режимів термоімпульсного оброблення з урахуванням міцнісних обмежень.

Розглянуто характерні зони, що виникають при реалізації вакуумно-дугових технологій, та виявлено основні проблеми в цих зонах, які стримують підвищення ефективності процесів отримання покриттів. На основі виконаних досліджень розроблено нові технічні рішення, що дозволяють: збільшити ресурс систем збудження дуги в джерелах плазми; керувати складом плазмового потоку, який генерується ними; знизити кількість макрочастинок у плазмовому потоці, що рухаються до оброблюваної поверхні; за допомогою розроблених генераторів газових сумішей отримувати багатокомпонентні покриття; зменшити ерозійні сліди на виробах від мікродугових розрядів, що виникають на етапі іонного очищення. Проаналізовано питання підвищення економічної ефективності роботи іонно-плазмових установок шляхом зниження витрат енергоресурсів і матеріалів.

Індекс рубрикатора НБУВ: В333.311

Рубрики:

Дуговий і ртутний розряди

Шифр НБУВ: Ж24839 Пошук видання у каталогах НБУВ 

Індекс рубрикатора НБУВ: К233.109.1

Рубрики:

Вплив опромінювання на структуру і властивості алюмінію та його сплавів

Шифр НБУВ: Ж24839 Пошук видання у каталогах НБУВ 

Індекс рубрикатора НБУВ: К663.033.057.2

Рубрики:

Металізація металів з використанням плазмового струменя (плазмова металізація)

Шифр НБУВ: Ж24839 Пошук видання у каталогах НБУВ 

Викладено основні відомості щодо елементів систем автоматизації технологічних об'єктів. Описано пристрої отримання інформації (датчики), елементи цифрової електроніки, методи передавання і оброблення інформації щодо параметрів технологічного процесу. Наведено дані про виконавчі пристрої і схеми вмикання електроприводу. Зазначено, що вимоги розвитку машинобудування припускають здійснення поступового переходу від автономно працюючих верстатів з числовим програмним керуванням (далі – ЧПК) до роботизованих технологічних комплексів і гнучких виробничих систем, у зв'язку з цим в машинобудуванні та інших галузях промисловості зростає роль систем автоматичного керування різноманітними технологічними об'єктами, а складовою частиною яких є промислове обладнання різного рівня складності: металообробний верстат, іонно-плазмова установка, робототехнічний комплекс, автоматична лінія. Зазначено, що об'єднання систем локального керування такого обладнання в єдине ціле на рівні ділянки, цеху, підприємства з метою створення автоматизованої системи керування виробництвом (далі - АСКВ) є необхідною вимогою часу.