Экспериментально показано, что можно приготовить образец для ПЭМ толщиной 40 нм и менее путем ионного травления ускоренными ионами ксенона. При этом не наблюдается отжига радиационных повреждений в аморфном кремнии, что свидетельствует о низкой температуре образца во время его обработки. Получены толщины аморфизированного слоя кремния до 1,7 нм, которые измерены прямым методом при помощи ПЭМ.