Індекс рубрикатора НБУВ: Ж613

Рубрики:

Обробка різанням

Шифр НБУВ: Ж14159 Пошук видання у каталогах НБУВ 

Разработана технология финишной обработки деталей из сапфира, которая в совокупности с определенной кристаллографической ориентацией режущего элемента резца, геометрией его заточки, конструкцией корпуса и режимами точения обеспечивает достижение состояния обработанных поверхностей, отвечающего требованиям, которые предъявляют к оптическим деталям, и не уступающего уровню, получаемому при точении резцами из дефицитных кристаллов природного алмаза.

Development and engineering of position sensitive radiation detectors on the base on CsI(Na) single crystals is described. It is shown that the line of innovations during development of both material and detector is the core for the new generation of radiation detector production. The main feature of the development is the multi functional approach to each technological step. The proposed approach has been tested at statistical series of 46 detectors.

The method for technical styrene fine cleaning is developed; the production process of such cleaning is implemented, the expedience of use of raw material microfiltration to obtain high quality prepared product is shown. The fine cleaning process was implemented into the production technology of largesize plastic scintillators with more than 2,5 m transparency.

Розроблено технологічний процес створення однорідних полікристалів Nal(Tl) великої площі та одержання на їх основі високоякісних детекторів для візуалізації гамма-зображення для систем однофотонної емісійної комп'ютерної томографії (ОФЕКТ). Основними етапами одержання сцинтиляційних детекторів великої площі є: пресування великогабаритних монокристалів за підвищених температур, порізка та фінішне оброблення кристала з наданням зразку високої однорідності розподілу світлового виходу. Для створення матеріалу з однорідними сцинтиляційними характеристиками вдосконалено спосіб високотемпературного деформування. Визначено структурну неоднорідність кристала, що викликана особливостями пластичного плину та напружено-деформованого стану. Виявлено оптимальні умови застосування методу багаторазових повторних релаксацій, які забезпечують фізичну цілісність матеріалу великої площі. Для формування заданої функції розподілу світла по всій поверхні детектора виявлено, що зміна методу оброблення поверхні кристала дозволяє варіювати шириною функції розподілу світла в межах до ЗО мм. Використання матеріалів з різними коефіцієнтами відбиття забезпечують зміну величини виходу світла з периметру детектора від +12 % до -6 % у порівнянні зі середньостатистичним виходом світла в центральній області детектора.

Изучены различные типы люминесценции (фотолюминесценция, катодолюминесценция, рентгенолюминесценция) в диапазоне от 360 до 900 нм монокристаллических порошков алмаза с размерами зерна от 125/100 до 250/200, разделенных на различные группы по степени совершенства кристаллической структуры и значениям магнитной восприимчивости. При комнатной температуре во всех группах кристаллов преобладало свечение H3 дефекта алмаза, при температуре жидкого азота в спектрах катодолюминесценции доминировали никелевые центры. С использованием отобранных алмазов и полисилоксанового эластомера Sylgard 184 изготовлены образцы композиционных сцинтилляторов и проведено исследование их радиационной стойкости. Установлена более высокая относительно стандартного YSO:Ce сцинтиллятора радиационная стойкость алмазных композитных сцинтилляторов к облучению быстрыми электронами.

В результаті дослідження закономірностей впливу спектроскопічних параметрів оброблюваного матеріалу та полірувального порошку на продуктивність полірування і шорсткість полірованих поверхонь деталей з оптичного скла, ситалів, оптичних і напівпровідникових кристалів, кераміки і полістиролу встановлено, що інтенсивність зняття оброблюваного матеріалу лінійно зростає за збільшення кількості молекулярних фрагментів в частинці шламу, що видаляється з оброблюваної поверхні, і спадає у разі зростання співвідношення частот власних коливань молекулярних фрагментів в частинках полірувального порошку та оброблюваному матеріалі. Показано, що у разі збільшення цього співвідношення параметри шорсткості полірованих поверхонь лінійно спадають. Встановлено, що інтенсивність зношування полірувального порошку лінійно зменшується за збільшення співвідношення частот коливань молекулярних фрагментів в оброблюваному матеріалі та частинках полірувального порошку.

В результаті дослідження механізму взаємодії оптичної поверхні з полірувальною дисперсною системою під час полірування встановлено, що перенесення енергії між ними відбувається за ферстерівським механізмом. Показано, що за резонансного перенесення енергії від частинок дисперсної фази полірувальної системи до оброблюваної поверхні та від оброблюваного матеріалу до частинок полірувального порошку при зменшенні спектрального розділення між ними енергія частинок шламу і частинок зносу зменшується, а ефективність передачі енергії зростає. Спектральне розділення характеризували розстроюванням енергії, що склало 2,8 - 4,0 меВ для частинок шламу і 2,8 - 12,2 меВ для частинок зносу. Просторове розділення між оброблюваною поверхнею і частинками полірувального порошку оцінювали як середнє арифметичне відхилення профілю полірованої поверхні, що дорівнювало 5,6 - 8,0 нм. Встановлено, що зменшення просторового та спектрального розділення між оброблюваним матеріалом і частинками полірувального порошку зумовлює збільшення розмірів частинок шламу і частинок зносу, що призводить до погіршення шорсткості оптичних поверхонь. Показано, що результати теоретичного розрахунку продуктивності полірування оптичних матеріалів збігаються з результатами експериментів за відхилення 2 - 7 %.

В результаті дослідження закономірностей впливу діелектричних сталих матеріалу, полірувального порошку та дисперсної системи на енергію їх взаємодії встановлено, що сталі Ліфшиця і потенціал взаємодії частинки полірувального порошку з оброблюваною поверхнею лінійно спадають за зменшення функції діелектричних проникностей, що зумовлює підвищення продуктивності полірування та погіршення шорсткості полірованих поверхонь. Показано, що на ефективність резонансного перенесення енергії від частинок дисперсної фази полірувальної дисперсної системи до оброблюваної поверхні суттєво впливає розділення між оброблюваним матеріалом, полірувальним порошком і дисперсною системою за їх діелектричними проникностями. Встановлено, що функції діелектричних проникностей, характерні для полірування оптичних поверхонь за допомогою дисперсних систем з мікро- та нонопорошків, змінюються пропорційно розділенню за діелектричними проникностями, яке визначається співвідношеннями їх статичних значень для оброблюваного матеріалу, полірувального порошку та дисперсної системи.

Індекс рубрикатора НБУВ: К960.25-1 + Л710.52

Рубрики:

Обробка кераміки, фарфору і скла у приладобудуванні

Механічне оброблення виробів з пластмас

Шифр НБУВ: Ж14159 Пошук видання у каталогах НБУВ 

В результаті дослідження механізму утворення нанорельсфу обробленої поверхні під час полірування полімерних оптичних матеріалів за допомогою дисперсних систем з мікро- та наночастинок полірувальних порошків встановлено, що параметри шорсткості Ra, Rq, Rmax лінійно зростають за збільшення розміру частинок шламу і зменшуються за збільшення енергії перенесення. Показано, що вони суттєво збільшуються за зменшення спектрального розділення між оброблюваним матеріалом і частинкою полірувального порошку та екстремально залежать від розділення за діелектричною проникністю між оброблюваних матеріалом, полірувальним порошком і дисперсною системою. Встановлено, що параметри шорсткості оброблюваної поверхні експоненціально зменшуються за збільшення частотного показника ефективності ферстерівського резонансного перенесення енергії (FRET) і лінійно збільшуються за збільшення часового показника ефективності FRET. В разі збільшення добротності резонатора, що утворюється поверхнями оброблюваного матеріалу і полірувального інструменту, параметри шорсткості полірованих поверхонь деталей з полімерних оптичних матеріалів лінійно зростають.

Індекс рубрикатора НБУВ: Л710.56

Рубрики:

Оздоблення виробів

Шифр НБУВ: Ж14159 Пошук видання у каталогах НБУВ 

Шифр НБУВ: Ж14159 Пошук видання у каталогах НБУВ 

Шифр НБУВ: Ж14159 Пошук видання у каталогах НБУВ