Бази даних

Реферативна база даних - результати пошуку

Mozilla Firefox Для швидкої роботи та реалізації всіх функціональних можливостей пошукової системи використовуйте браузер
"Mozilla Firefox"

Вид пошуку
Сортувати знайдені документи за:
авторомназвоюроком видання
Формат представлення знайдених документів:
повнийстислий
 Знайдено в інших БД:Автореферати дисертацій (1)Книжкові видання та компакт-диски (2)
Пошуковий запит: (<.>U=К235.110.43$<.>)
Загальна кількість знайдених документів : 8
Представлено документи з 1 до 8

      
Категорія:    
1.

Мазилова Т. И. 
Морфология зернограничных дисконнекций в вольфраме / Т. И. Мазилова, И. М. Михайловский // Металлофизика и новейшие технологии. - 2003. - 25, № 8. - С. 1027-1042. - Библиогр.: 20 назв. - рус.


Ключ. слова: дисконнекция, границы зерен, зернограничный уступ, дислокация, монослойная дисконнекция
Індекс рубрикатора НБУВ: К235.110.2 + К235.110.43

Рубрики:

Шифр НБУВ: Ж14161 Пошук видання у каталогах НБУВ 



      
Категорія:    
2.

Borisenko V. A. 
Correlation Dependences between Short-Term/Long-Term Static Strength Characteristics and Creep Resistance of Tungsten at High Temperatures = Взаимосвязь между характеристиками кратковременной и длительной статической прочности и сопротивления ползучести вольфрама при высоких температурах / V. A. Borisenko, V. V. Bukhanovskii, I. Mamuziс // Пробл. прочности. - 2005. - № 6. - С. 50-60. - Библиогр.: 15 назв. - англ.


Ключ. слова: вольфрам, кратковременная и длительная статистическая прочность, сопротивление ползучести, высокие температуры
Індекс рубрикатора НБУВ: К235.110.43

Рубрики:

Шифр НБУВ: Ж61773 Пошук видання у каталогах НБУВ 



      
Категорія:    
3.

Богданов Е. И. 
Особенности имплантации ионов аргона в поликристаллический порошковый вольфрам из плазмы тлеющего разряда / Е. И. Богданов, А. В. Рясный, В. Ф. Мазанко, С. Е. Богданов // Металлофизика и новейшие технологии. - 2007. - 29, № 6. - С. 755-762. - Библиогр.: 12 назв. - рус.

Рассмотрены особенности глубокого проникновения ионов аргона в порошковый поликристаллический вольфрам из низкотемпературной плазмы нормального тлеющего разряда аргона. Показано, что низкоэнергетического воздействия ионов аргона (до 600 эВ) достаточно для эффективного изменения структуры вольфрама на глубинах до 120 мкм. Предложена модель глубокого проникновения ионов аргона в металлы из плазмы тлеющего разряда, включающая в себя два этапа - имплантацию в приповерхностные слои ускоренных ионов инертного газа и их последующую радиационно-стимулированную диффузию в объеме металла.


Індекс рубрикатора НБУВ: К235.110.43

Рубрики:

Шифр НБУВ: Ж14161 Пошук видання у каталогах НБУВ 

      
Категорія:    
4.

Богданов С. Є. 
Дифузія та структурно-фазові перетворення у вольфрамі і кремнії при низькоенергетичній зовнішній дії : автореф. дис. ... канд. фіз.-мат. наук : 01.04.13 / С. Є. Богданов; НАН України, Ін-т металофізики ім. Г.В. Курдюмова. - К., 2010. - 20 c. - укp.

Вперше вивчено структуру та побудовано фізичну модель дифузії аргону в порошковому вольфрамі під час обробки в низькоенергетичній плазмі жевріючого розряду аргону. Показано, що за опромінення порошкового вольфраму іонами аргону в низькоенергетичній плазмі жевріючого розряду іони аргону не залишаються локалізованими в тонкому приповерхневому шарі, а поширюються на значні відстані в об'єм матеріалу від поверхні, що опромінюється. Методом радіоактивних ізотопів визначено глибини проникнення в моно-, полікристалічний та порошковий вольфрам. Показано, що радіаційні дефекти типу Френкеля збільшують концентрацію вакансій, як у решітці зерен, так і в межі зерен, що призводить до дифузії атомів Sі та Ті в силіцидний шар за вакансійним механізмом. Вперше показано, що низькоенергетична термоіонна обробка, що призводить до утворення радіаційно-стимульованих дефектів, супроводжується дифузією атомів переважно за вакансійним механізмом.

  Скачати повний текст


Індекс рубрикатора НБУВ: К235.110.43 + В379.256,022 + В371.236,022

Рубрики:

Шифр НБУВ: РА377495 Пошук видання у каталогах НБУВ 

      
Категорія:    
5.

Петрищев А. С. 
Исследование влияния температуры тепловой обработки, состава шихты на плотность металлизованного вольфрамсодержащего материала / А. С. Петрищев // Металл и литье Украины. - 2015. - № 6. - С. 26-29. - Библиогр.: 14 назв. - рус.


Індекс рубрикатора НБУВ: К235.110.43

Рубрики:

Шифр НБУВ: Ж14585 Пошук видання у каталогах НБУВ 



      
Категорія:    
6.

Мазyр В. І. 
Мікроскопічнa кінетикa перитектичного перетворення в лігатурних сплавах Al - W / В. І. Мазyр // Нові матеріали і технології в металургії та машинобуд. - 2020. - № 1. - С. 41-48. - Бібліогр.: 4 назв. - укp.


Індекс рубрикатора НБУВ: К233.104.3 + К235.110.43

Рубрики:

Шифр НБУВ: Ж16166 Пошук видання у каталогах НБУВ 



      
Категорія:    
7.

Орловська С. Г. 
Дослідження закономірностей утворення і росту кристалів оксиду на поверхні вольфрамових провідників при нагріванні / С. Г. Орловська // Metallophysics and Advanced Technologies. - 2020. - 42, № 9. - С. 1231-1243. - Бібліогр.: 14 назв. - укp.


Індекс рубрикатора НБУВ: К235.110.43

Рубрики:

Шифр НБУВ: Ж14161 Пошук видання у каталогах НБУВ 



      
Категорія:    
8.

Gokhman A. 
Isochronal annealing of electron-irradiated tungsten modelled by CD method: influence of carbon on the first and second stages of recovering = Ізохронний відпал електронно-опроміненого вольфраму, моделювання за методом кластерної динаміки: вплив вуглецю на першу і другу стадії відновлення / A. Gokhman, D. Terentyev, M. Kondria // Вісн. Черкас. ун-ту. Сер. Фіз.-мат. науки. - 2017. - № 1. - С. 29-37. - Бібліогр.: 19 назв. - англ.

Еволюцію мікроструктури вольфраму під впливом електронного опромінення та після опромінюваного ізохронного відпалу досліджено з використанням мультімасштабного підходу, який базується на моделюванні методом кластерної динаміки. У цих симуляціях розглянуто вільні точкові дефекти (міжвузельні атоми та вакансії), кластери точкових дефектів із розміром до 10 000 мономерів, а також кластери, які складаються з атомів вуглецю та точкових дефектів. Зміну дефектної структури у процесі ізохронного відпалу вольфраму без домішків і вольфраму з вуглецем досліджено на першій стадії (температура ізохронного відпалу від 5 до 100 К) і другій стадії (температура ізохронного відпалу від 100 до 500 К) відновлення. Атоми вуглецю, вільні міжвузельні атоми, вільні вакансіі та вакансійні кластери з розміром до чотирьох вакансій розглянуто як рухомі об'єкти, дифузія яких відбувається у трьохмірному просторі. Кластери міжвузельних атомів, вакансійні кластери з розміром 5 і більше вакансій, а також кластери, які складаються з атомів вуглецю та точкових дефектів, розглянуто як нерухомі об'єкти. Вибор параметрів моделі, а саме, значення коефіцієнтів дифузії, енергії формування та енергію зв'язування точкових дефектів і точкових дефектів із атомами вуглецю базується на даних експерименту та результатів розрахунків із перших принципів. Деякі параметри моделі були додатково скореговані незначним чином для досягнення найкращого узгодження даних моделювання методом кластерної динаміки та експериментальних даних щодо впливу ізохронного відпалу на відновлення дефектної структури електронно-опромененного вольфраму. Експериментальний пік відновлення за температури 70 К на першій стадії у цілому добре відтворюється у моделюванні методом кластерної динаміки як для вольфраму без домішків, так і для вольфраму з вуглецем. Експериментальні піки відновлення на другій стадії відновлення дефектної структури вольфраму формуються, згідно з дослідженням, завдяки взаємодії точкових дефектів та атомів вуглецю.


Індекс рубрикатора НБУВ: К235.110.43 + К235.110.91

Рубрики:

Шифр НБУВ: Ж69408 Пошук видання у каталогах НБУВ 
 

Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського