Проведен обзор методов и устройств зондового контроля плазменных технологических процессов. Описана серия приборов "Контроль", использующих специально разработанные схемы компенсации и обработки зондового сигнала, а также оригинальные алгоритмы анализа кривых травления. Описан также универсальный прибор "Плазмометр", предназначенный для автоматизированного определения ключевых параметров лабораторной и технологической плазмы.

Приведены описание экспериментальной установки для плазменно-механической обработки и результаты исследования зоны разупрочнения от плазменной струи. Полученные результаты позволили установить рациональные режимы процесса.

В связи с развитием спроса на преобразователи с высокой объемной плотностью энергии для плазменной обработки деталей предложена новая более эффективная топология преобразователя с LCC-цепью. Имитационная модель подтвердила возможность уменьшения потерь переключения и получения высоких кпд (94 %) и коэффициента мощности (0,9) в диапазоне нагрузок от 20 до 100 % номинальной. Также она дает возможность ключевым транзисторам источника функционировать с минимальными потерями при переключении во всем диапазоне нагрузок с частотой переключения до 150 кГц. По сравнению с известной топологией здесь требуется лишь незначительное количество дополнительных компонентов.

Розроблено, експериментально обгрунтовано та реалізовано концепцію створення високоресурсних катодних вузлів з застосуванням стійких до отруєння емісійних матеріалів і комплексного врахування їх властивостей у разі проектування та призначення режимів роботи обладнання для плазмової обробки матеріалів. Наведено результати теоретичних і експериментальних досліджень. З застосуванням методів математичного моделювання, аналітичних і числових методів математичної фізики розв'язано задачі проектування катодних вузлів. Проведено математичне моделювання з застосуванням сучасних скінченноелементних САЕ-пакетів і систем автоматизованого проектування. З використанням методів електронної мікро-, спектроскопії, оптичних методів виміру температури проведено експериментальні дослідження.

З використанням високовольтного високочастотного розряду атмосферного тиску розроблено метод створення імпульсної плазми великої довжини та малого поперечного перерізу уздовж поверхні діелектричних матеріалів, зокрема всередині напівзакритих каверн великої глибини, ("плазмової струни"). Відносна міра нерівноважності й активності такої плазми значною мірою збільшені у порівнянні з застосуванням дугових сильнострумових розрядів, а щільності енергії на одиницю поверхні значно перевищують можливі значення за умов застосування коронного та бар'єрного розрядів. Розвинуто метод імпульсної обробки поверхні діелектриків газовим розрядом атмосферного тиску типу "плазмової струни", що дозволяє завдяки можливості регулювання часу взаємодії плазми з поверхнею обробляти полімери, чутливі до термічного або ультрафіолетового впливу. Відзначено, що цей метод дає змогу проводити високоефективну плазмову обробку поверхні діелектричних матеріалів (модифікацію поверхні, активацію й очищення, стерилізацію й дезодорацію) протягом дуже короткого часу взаємодії плазми з поверхнею (десяток мілісекунд). За цього термічна й ультрафіолетова складові плазмової дії на поверхню матеріалів значною мірою зменшені у порівнянні з застосуванням дугових сильнострумових розрядів. Розроблено метод просторової стабілізації "плазмової струни" атмосферного тиску на рухливій поверхні діелектрика поздовжнім зовнішнім боковим електродом з рівномірним розподілом щільності струмів зміщення крізь поверхню за довжиною газового розряду у разі спеціальної форми електроду та нерівномірної товщини діелектрика, що його покриває. Створено метод, який дозволяє подовжити імпульсний

Розглянуто питання щодо підвищення ефективності контролю плазмохімічних процесів травлення мікроструктур за рахунок введення багатоканальних систем реєстрації та обробки спектру власного випромінювання нерівноважної плазми. Проаналізовано принципи побудови таких систем та перспективи їх використання за технологічних умов.

Індекс рубрикатора НБУВ: Ж624

Рубрики:

Плазмова обробка

Шифр НБУВ: Ж24432 Пошук видання у каталогах НБУВ 

Індекс рубрикатора НБУВ: В333.31 + Ж624

Рубрики:

Сильнострумові розряди

Плазмова обробка

Шифр НБУВ: Ж69605 Пошук видання у каталогах НБУВ 

Представлены разработки и научные исследования отдела плазменных технологий за почти 30 лет его существования в структуре Института газа НАН Украины, перспективы и проблемные вопросы развития плазменных исследований.

Індекс рубрикатора НБУВ: Ж624

Рубрики:

Плазмова обробка

Шифр НБУВ: Ж69605 Пошук видання у каталогах НБУВ 

Індекс рубрикатора НБУВ: Ж624-5-02

Рубрики:

Плазмова обробка

Шифр НБУВ: Ж28350 Пошук видання у каталогах НБУВ 

Для обеспечения условий интенсификации производства показана необходимость создания региональных инженерно-логистических центров по ионно-плазменной обработке. На примере предложенной структуры такого центра рассмотрены его основные функции. Высокая эффективность работы инженерно-логистического центра с предприятиями-заказчиками достигается разнообразием форм сотрудничества с ними. Использование данного технико-экономического решения - создание региональных инженерно-логистических центров ионно-плазменной обработки - позволит поднять уровень современного производства в Украине.

Вивчено термодинамічну рівновагу в термічній запорошеній плазмі, яка містить іонізований газ і тверді частинки (пилинки), що взаємодіють між собою. Тенденція пилинок у запорошеній плазмі до агломерації відповідає тенденції запорошеної плазми до збалансованих станів. У випадку агломерації електричні збурення, породжені кожною пилинкою, зосереджуються всередині агломерату, тому збурення в плазмі зумовлені лише зовнішньою поверхнею агломерату. Більшість можливих станів електронів та іонів у плазмі залежить від об'єму, зайнятого пилинками: чим менше збурень, тим більше в плазмі станів, доступних для іонів та електронів. Якщо пилинки зближуються до відстані менше восьми дебаєвських радіусів екранування, сумарний об'єм збурень і вільна енергія плазми мінімізуються.

Описано способи застосування низькотемпературної плазми в промисловості. Визначено переваги використання цієї технології обробки матеріалів.

На базі мікроконтролера РIС16F877A розроблено мікропроцесорну систему реєстрації спектра випромінювання нерівноважної плазми для контролю плазмохімічних процесів. Система дозволяє проводити одночасну обробку даних від чотирьох незалежних джерел інформації та візуалізувати цільовий процес плазмового травлення мікроструктур.

Розроблено математичну модель мікроелектронного оптичного перетворювача з активним індуктивним елементом, призначеного для контролю плазмохімічних процесів. На основі моделі одержано аналітичні залежності для функції перетворення та рівняння чутливості.

Досліджено залежності від часу опору плазмоерозійного навантаження. Вперше виявлено дві нові характерні ділянки першої моди цієї залежності. В результаті їхнього аналізу обгрунтовано явище повторного утворення стримерних і лідерних плазмових каналів після згасання переважної більшості плазмових каналів, які утворилися раніше. З урахуванням двох нових характерних ділянок першої моди залежності опору плазмоерозійного навантаження від часу побудовано її уточнену параметричну модель. Знайдено оптимальні за критеріями трьох основних параметрів нев'язки апроксимації значення параметрів цієї моделі. Запропоновано функції, які апроксимують залежності цих параметрів від амплітуди імпульсів напруги, прикладеної до навантаження, та знайдено оптимальні значення їх коефіцієнтів. У програмному пакеті Mathlab Simulink створено модель розрядно-імпульсної системи з уточненою параметричною моделлю плазмоерозійного навантаження і розраховано перехідні процеси у ній. Представлено оцінку адекватності моделювання перехідних процесів у порівнянні з реальними процесами.

Кратко изложены основы физики и техники вакуумно-дуговых источников плазмы, очищенной от макрочастиц - твёрдых и жидких фрагментов катодного материала. Источники предназначены для осаждения функциональных покрытий. Систематизированы результаты исследований в области формирования потоков макрочастиц эрозионной плазмы, которые генерируются катодными пятнами дугового разряда в вакууме и газовой среде низкого давления. Рассмотрены способы подавления эмиссии частиц в технологических плазменных источниках, формирования диаграммы направленности плазменных потоков и механизмы транспортировки плазмы в прямолинейных и криволинейных магнитоэлектрических плазмоведущих каналах. Рассмотрены программные способы исследования движения плазменных компонентов вдоль фильтров, а также прогнозирования и оптимизации рабочих характеристик систем. Описаны наиболее распространённые фильтрующие системы для очистки плазмы от макрочастиц.

Індекс рубрикатора НБУВ: В333.11-03,022 + В333.212,022 + Ж624-5

Рубрики:

Генератори (джерела) і прискорювачі плазми

Непружні взаємодії і їх перерізи

Плазмова обробка

Шифр НБУВ: РА445693 Пошук видання у каталогах НБУВ 

Індекс рубрикатора НБУВ: Ж624-5

Рубрики:

Плазмова обробка

Шифр НБУВ: Ж24340 Пошук видання у каталогах НБУВ