Виявлено екстремальний характер залежності липкості від часу фотоініційованої радіальної полімеризації за аеробних умов тонких шарів ультрафіолетових (УФ) лаків, що пояснюється одночасним перебігом процесів інгібування молекулярним киснем переважно верхніх шарів і фронтальної пошарової полімеризації у напрямку до верхніх шарів. Уперше як фотоініціатор запропоновано 2,2-диїзопропокси-1-фенілетанон-1, що забезпечує високу швидкість УФ-радикальної полімеризації лаків на основні епоксіакрилатних олігомерів і відсутність їх пожовтіння під час зберігання. Виявлено зменшення у 2 рази індукційного періоду УФ-полімеризації досліджених лаків за присутності аргону у порівнянні з азотом, що пояснюєтья його більшою питомою масою та кращою розчинністю. Проведено класифікацію технологічних процесів формування лакових покриттів на друкарських відбитках залежно від хімічного складу лаків. Установлено, що обробка коронним розрядом офсетних вібитків значно збільшує адгезію до них УФ-лаків, що пояснюється зростанням полярної складової поверхневого натягу задрукованої поверхні внаслідок її окиснення.

  Завантажити