Установлено закономірності фізичних процесів низькотемпературного формування структури приповерхневх шарів твердих тіл під впливом атомно-іонних потоків. За методами комп'ютерного моделювання досліджено закономірності формування приповерхневх шарів, одержаних внаслідок осадження з атомних та іоннних потоків. Установлено, що за низькотемпературного осадження наноструктура тонких шарів металів визначається процесами виникнення та розвитку морфологічної нестійкості на поверхні плівки під час процесу її росту. Вивчено вплив низькоенергетичного опромінення власними іонами на морфологію поверхні й об'ємну мікроструктуру плівок міді та ніобію. З'ясовано, що зміна величини та знака мікронапруг у зростаючих плівках під опроміненням зумовлена утворенням кластерів міжвузельних атомів, що виникають у результаті розвитку каскадів атом-атомних зіткнень. З використанням методів комп'ютерного моделювання встановлено особливості процесів формування поверхневих шарів за умов імплантації металевих і газових іонів, а також за іонно-стимульованого осадження. Установлено, що існує область значень іонного струму й енергії іонної обробки, для яких процес іонного азотування відбувається найбільш ефективно.

  Завантажити